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  据《路透》报导，ASML一名高管表明，该公司下一代芯片制作设备已准备好供制作商开端发动量产，对芯片工业而言是一大重要里程碑。

  这家荷兰公司出产全球仅有商用的极紫外光微影 (EUV) 设备，为芯片制作商的要害中心设备。ASML 多个方面数据显现，这款新设备将帮忙台积电与英特尔等芯片厂，经过简化多个贵重且杂乱的制程过程，出产更强壮且更高效的芯片。

  ASML 技能长 Marco Pieters 2月25日向路透表明，公司计划在周四于圣荷西 (San Jose) 举办的技能会议上发布这一些数据，标志一项要害里程碑。

  开发这套贵重的次代代设备历时多年，期间芯片制作商一直在评价何时开端导入量产在经济上才具合理性。

  但随着现有代代 EUV 设备在制作杂乱AI 芯片方面逐步迫临技能极限，下一代设备——称为 High-NA EUV(高数值孔径极紫外光) 设备——对 AI 工业至关重要，可帮忙提高如 OpenAI 的 ChatGPT 等谈天机器人的才干，也让芯片厂能按计划推出 AI 芯片，以满意快速飙升的需求。

  Pieters 表明，ASML 多个方面数据显现，High-NA EUV 设备现在停机时刻有限，已出产出 50 万片如餐盘巨细的硅晶圆，并能制作满足精密的图画以构成芯片电路。这三项数据归纳显现，设备已具有供制作商运用的成熟度。

  他指出，“我以为现在正处于一个要害机遇，能够检视已完结的学习循环量。”他所指的是客户对设备做的测验次数。

  虽然技能上已准备就绪，但企业仍需 2 至 3 年时刻进行满足的测验与开发，才干将其整合至实践制作流程中。

  Pieters 表明，“(芯片制作商) 已具有验证这些设备所需的悉数常识。”

  他也指出，现在设备的可用率约达 80%，公司方针在年末条件高至 90%。ASML 行将发布的成像数据，足以压服客户以单一道 High-NA 制程，替代旧代代设备所需的多个过程。设备已处理的 50 万片晶圆，也让公司得以扫除许多初期问题。

  ASML 2025年第四季度新增订单额达132亿欧元，我国占该季度净体系销售额的36%

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